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研究生:劉鴻輝
研究生(外文):Hon-HueiLiu
論文名稱:金屬原子層沉積溫度調變與後退火熱處理用於製作高效能P型金屬氧化物半導體元件
論文名稱(外文):ALD Temperature Modulation and Extra Post Metal Anneal to Fabricate High Performance P-type MOSFET Device
指導教授:戴政祺
指導教授(外文):Cheng-Chi Tai
學位類別:碩士
校院名稱:國立成功大學
系所名稱:電機工程學系碩士在職專班
學門:工程學門
學類:電資工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2017
畢業學年度:105
語文別:英文
論文頁數:32
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