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研究生:
趙明輝
研究生(外文):
Ming-Hui Chao
論文名稱:
UV雷射加工盲孔製程改善
論文名稱(外文):
Improvement of Blind Via Drilling by UV Laser Processing
指導教授:
李碩仁 教授
指導教授(外文):
Dr. Shuo-Jen Lee
口試委員:
韓國璋 教授
、
李其源 教授
、
楊恭廷 博士
口試委員(外文):
Dr. Kuo-Chang Han
、
Dr. Chi-Yuan Lee
、
Dr. Kung-Ting Yang
口試日期:
2016-12-20
學位類別:
碩士
校院名稱:
元智大學
系所名稱:
機械工程學系
學門:
工程學門
學類:
機械工程學類
論文種類:
學術論文
論文出版年:
2016
畢業學年度:
105
語文別:
中文
論文頁數:
80
中文關鍵詞:
盲孔
、
紫外線光雷射
、
355奈米波長
、
晶片載板
、
實驗設計
、
因子實驗設計
、
區集實驗
外文關鍵詞:
Blind Via
、
UV Laser
、
355nm wavelength
、
Chip Substrate
、
DOE
、
Factorial Design
、
Blocking Experiment
相關次數:
被引用:0
點閱:723
評分:
下載:30
書目收藏:0
雷射盲孔加工的製程,主要做為電路板內的層與層之間的銅箔線路連接,尤其在晶片載板的產品應用。順應微小盲孔需求的趨勢,改善現有355nm波長之UV雷射加工盲孔製程。本研究使用部份因子實驗設計,主要有二階段及三個實驗,第一階段分為二個區集實驗,排除高斯波型影響實驗結果的可能性。在縮小水準範圍後的第二階段,求得和第一階段的結果相符合,以第一階段的結果做為最佳化操作參數,參數為平頂波型、光斑大小35µm、光斑的能量密度1.15J/cm2、脈衝發數61發脈衝和雷射脈衝重複率100KHz。在第二階段之參數的水準範圍內,上孔徑平均值的最大偏移量為-2.7125μm在規格±5μm內,上下孔徑比平均值的最大偏移量為-2.1675%在規格±5%內,確認在水準範圍可包含參數設定值的變異且其結果可以符合目標的規格要求。製程能力由原來的上孔徑60±10µm及上下孔徑比>70%的盲孔,提升至上孔徑46±5µm且上下孔徑比達75±5%。由於盲孔加工的上孔徑異常,可能導致產品因短路而全部報廢,利用第二階段的分析結果,可將失效模式與效應分析的風險優先指數由原來的360改善為16,其值小於可容許最大值40,可有效獲得大幅度的改善。最後可以利用本次研究,建立參數最佳化的流程和驗證的模式,進而縮短新製程參數最佳化的時間。
Main purpose of blind via drilling by laser processing is making of connection between layer and layer of copper foil lines, especially for the application of chip substrate product. According to the trend of small blind via, needs to improve the existing blind via drilling by 355nm wavelength of UV laser processing. In this study, partial factorial design is used. There are two main stages and three experiments. The first stage is divided into two blocking experiments to eliminate influence the experimental results by Gaussian beam. In the second stage after the reduction of the level range, the result is in agreement with the one of first stage. The result of the first stage is the optimization operating parameters as Top-Hat beam mode, 35µm beam size, 1.15J/cm2 fluence, 61 pulse, and 100 KHz PRR. In the range of the parameters for the second stage, Refer to upper diameter, the maximum deviation of the mean value is -2.7125μm within the spec. ±5μm. Refer to taper, the maximum deviation of mean value is -2.1675% within the spec. ±5%. Verify that deviation of parameter can be included in the level range and that the results can meet the specification requirements of the target. The process capacity is increased from 60±10μm upper diameter and more than 70% taper of the blind via, to 46±5μm upper diameter and 75±5% taper. Using the results of the second stage analysis, the risk priority number of the failure mode and effect analysis can be improved from 360 to 16, which is smaller than the allowable (Max. 40) to get the significant improvement. Finally, this study can be used to establish the model for the parameters optimization and verification process, thereby shortening the time to optimize the parameters for the new process.
書名頁 I
審定書 III
授權書 IV
摘要 V
英文摘要 VI
誌謝 VIII
目錄 IX
表目錄 XI
圖目錄 XIII
一、 緒論 1
1.1 前言與研究背景 1
1.2 研究動機與目標 8
1.3 論文架構 9
二、 文獻回顧 11
2.1 雷射加工原理 11
2.2 雷射加工種類 19
2.3 加工材料 20
2.4 相關文獻回顧 24
三、 研究方法與相關設備 30
3.1 實驗設計介紹 30
3.2 實驗設計步驟 31
3.3 建立實驗架構 34
3.4 研究設備及工具 37
四、 最佳化分析研究 40
4.1 盲孔品質特徵要求 40
4.2 實驗參數選定 41
4.3 實驗設計與分析 43
4.4 最佳化操作參數 70
五、 結論與未來展望 74
5.1 結論 74
5.2 建議與展望 76
參考文獻 78
[1] 財政部中區國稅局,102年度製造業原物料耗用通常水準調查報告附件,102年度印刷電路板業調查報告
[2] 林三寶,雷射原理與應用(第二版),全華圖書,2009年8月
[3] 張國順等,現代雷射製造技術,化學工業出版社,2006年2月
[4] 丁勝懋,雷射工程導論(修訂第四版),中央圖書出版社,2006年2月
[5] H. Huegel,Strahlwerkzeug Laser,B. G. Teubner Stuttgart, Chapter 1,1992
[6] 賴耿陽,雷射技術原理實務,復漢出版社,1993年
[7] https://www.aft-website.com/en/electron/abf
[8] 黃冠仁,CO2雷射加工高分子及玻璃材料的缺陷改善探討,國立成功大學機械工程學系碩士論文,民國95年1月
[9] 吳宗憲,CO2雷射加工藍寶石基板之研究,國立雲林科技大學機械工程系碩士論文,民國98年6月
[10] Lars Brusberg、Marco Queisserb、Clemens Gentschb、Henning Schrödera、Klaus-Dieter Langb,Advances in CO2-Laser Drilling of Glass Substrates,1875-3892 © 2012 Published by Elsevier B.V.and/or review under responsibility of Bayerisches Laserzentrum GmbH
[11] 黃博靖,雷射劃線應用於薄膜太陽能電池模組,元智大學先進能源研究所碩士論文,民國100年1月
[12] 許畯珽,以氬離子雷射對玻璃材料加工之研究,國立中央大學光 電科學研究所碩士論文,民國96年7月
[13] 陳勇仁、林昭文,532nm Nd:YVO4雷射於環氧樹脂成型晶圓鑽盲孔技術之研究,工程科技與教育學刊,第八卷第三期,民國100年9月,第 415~427 頁
[14] 陳世敏,具有高反射率表面材料之雷射加工研究,國立雲林科技大學機械工程系碩士論文,民國98年6月
[15] 陳正竹,355nm Nd:YVO4雷射對摻鉻釔鋁石榴石晶體光纖加工之研究,國立台灣科技大學機械工程系碩士論文,民國99年6月
[16] 曾彥彬,UV雷射於氟摻雜氧化錫薄膜退火製程之研究,國立交通大學機械工程學系碩士論文,民國100年6月
[17] D. Ulierua、Alina Mateib、Elena Ulieruc、A. Tantauc、Florin Babaradad,High Density Interconnections Fabrication by UV Lasers Microprocessing of Microvias and Microstructures,© 2008 Cardiff University, Cardiff, UK. Published by Whittles Publishing Ltd.
[18] Hongyu Zheng、Eric Gan、Gnian Cher Lim,Investigation of laser via formation technology for the manufacturing of high densitysubstrates,Gintic Institute of Manufacturing Technology in Singapore,May 2001
[19] 陳克明,準分子雷射在增層材料微鑽孔之研究,國立中央大學,化學工程與材料工程研究所積體電路載板產業研發碩士專班碩士論文,民國97年7月
[20] 陳柏勲,皮秒雷射應用於硬脆材料切割之探討,義守大學機械與自動化工程學系碩士論文,民國102年7月
[21] 林正祥,飛秒與奈秒雷射於微奈米加工之研究,國立成功大學工程科學系博士論文,民國99年5月
[22] 邱婉玲,飛秒雷射加工創新研究-內部結構型擴散片與矽晶圓裂片應用,國立臺灣科技大學機械工程系碩士論文,民國99年7月
[23] 曾川益,飛秒雷射加工之熱傳與應力分析,國立成功大學工程科學系碩士論文,民國99年7月
[24] 郭晉良,準分子雷射加工微型3D立體結構,國立成功大學機械工程學系碩士論文,民國91年7月
[25] 賴志明,HDI印刷電路板填孔龜裂檢出最佳化之研究-運用實驗設計法,元智大學工業工程與管理研究所碩士論文,民國101年7月
[26] 李光耀,應用六標準差於PCB雷射鑽孔製程品質改善以個案研究 A公司為例,元智大學工業工程與管理研究所碩士論文,民國99年6月
[27] 楊長林、黃榮華、邱垂康,應用六標準差技術提昇印刷電路板鑽孔製程能力之研究,輔仁大學企業管理學系和管理學研究所,民國97年8月
[28] Douglas C. Montgomery,Design and Analysis of Experiments,Seventh Edition,John Wiley & Sons(Asia)Pte Ltd,2009
[29] David E. Coleman and Douglas C. Montgomery,A Systematic Approach to Planning for a Designed Industrial Experiment,Published by: Taylor & Francis, Ltd. on behalf of American Statistical Association and American Society for Quality,1993 Feb
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