(34.236.244.39) 您好!臺灣時間:2021/03/09 19:16
字體大小: 字級放大   字級縮小   預設字形  
回查詢結果

詳目顯示:::

我願授權國圖
: 
twitterline
研究生:賈治賢
研究生(外文):CHIA, CHIH-HSIEN
論文名稱:LCD觸控模組薄膜防護層抗環境能力提升之研究
論文名稱(外文):Research on the Enhancement of Anti-Environmental Capability of the Thin Film Protective Layer of LCD Touch Module
指導教授:馬恆馬恆引用關係
指導教授(外文):Ma, Heng
口試委員:劉光泰,劉家盛
口試委員(外文):LIU,KUANG-TAI , LIU,CHIA-CHENG
口試日期:2020-06-19
學位類別:碩士
校院名稱:中華大學
系所名稱:工業管理學系
學門:商業及管理學門
學類:其他商業及管理學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2020
畢業學年度:108
語文別:中文
論文頁數:48
中文關鍵詞:ITO濺鍍田口分析法
外文關鍵詞:ITOSputterTaguchi Methods
相關次數:
  • 被引用被引用:0
  • 點閱點閱:38
  • 評分評分:系統版面圖檔系統版面圖檔系統版面圖檔系統版面圖檔系統版面圖檔
  • 下載下載:0
  • 收藏至我的研究室書目清單書目收藏:0
LCD觸控膜組的薄膜防護層有抗靜電與干擾的功能,此防護層由於受限於基板本身的耐熱程度,故以低溫濺鍍的方式濺鍍,而低溫濺鍍製程有著抗環境能力不足的問題,因此如何提升低溫製程之下的薄膜抗環境能力,成為的研究主題。本研究以提升薄膜品質為目的,利用田口分析方法將濺鍍參數進行最佳化選擇,經過縮小變異、接近目標、變異數分析確認等三階段,來確認製程改善之後的濺鍍參數,並且將其導入濺鍍廠量產。研究結果顯示,防護層在耐久環境(60℃and 90%RH for 450hr)的加速實驗中,以最佳化參數得到的電阻特性,有顯著的集中性與降低5倍變化度,且每回製程準備可縮短3小時,成品有效趨緩水氣滲入的時間,由原本的4小時延長為8小時。ITO防護層的品質提升可視為觸控產品的壽命延長,並且賦予未來觸控式車用系統研發上的彈性與空間,在儀表板整合、後視鏡整合、自動化駕駛、車用顯示器的開發與設計上,提供更多元的研發空間,並且讓薄膜濺鍍技術與車用市場接軌,這是濺鍍廠未來跨產業配合的主要指標,也是現在相關產業工程師們積極開發的重要研究項目。
The thin film protective layer of the LCD touch film group has anti-static and interference functions. This protective layer is sputtered by low-temperature sputtering due to the poor heat resistance of the substrate itself. The low temperature sputtering process has the problem of insufficient environmental resistance, so how to improve the environmental resistance of the thin film in the low temperature process has become the research topic.
For the purpose of improving the quality of the film, this study uses Taguchi analysis method to optimize the selection of sputtering parameters. After reducing the variation, approaching the target, and analyzing and confirming the number of variations, the sputtering parameters after the process improvement are confirmed, and the It was introduced into the sputtering plant for mass production.
The research results show that the protective layer is in a durable environment (60℃and 90%RH for 450hr), It can be increased roughly 5 times, shortened 3 hours in each process and prolong the appearance variation of semi-finished product,and the finished product effectively slowed down the appearance of abnormal appearance, which was extended from 4 hours to 8 hours.
The improvement of the quality of the ITO protective layer can be regarded as the extension of the life of the touch module, and it will give flexibility and space in the development of future touch car systems. The integration of instrument panels, rearview mirrors, automated driving, and the development of car displays In terms of design and design, providing more diversified research and development space and integrating thin film sputtering technology with the automotive market are the main indicators for the future cross-industry cooperation of sputtering plants, and are also important research projects actively developed by relevant industrial engineers.

目錄
摘要i
ABSTRACTii
誌謝辭iii
目錄iv
表目錄v
圖目錄vi
第一章 緒論1
第一節 研究背景1
第二節 研究動機2
第三節 研究目的3
第四節 研究問題敘述5
第二章 文獻探討7
第一節 氧化銦錫(ITO)之運用與特性7
第二節 直流濺鍍原理簡介與發展:11
第三節 薄膜成長機制14
第四節 真空濺鍍機器與氧化銦錫靶材15
第五節 薄膜濺鍍程序與各項機台操作17
第六節 田口分析法26
第三章 研究方法28
第一節 控制因子與雜音因子28
第二節 田口直交表設定與計算30
第四章 研究結果與分析35
第一節 田口直交表結果與分析35
第二節 研究問題成效與分析40
第三節 田口三階段特性比較44
第五章 結論45
參考文獻46

表目錄
表 1 霉變成分分析總表SEM_ITO6
表 2 氧化銦錫靶材主要規格表17
表 3 影響鍍膜因子總表25
表 4 實驗中所使用之硬體與檢測儀器30
表 5 濺鍍控制因子水準31
表 6 濺鍍控制因子水準L18(21X37)34
表 7 田口L18(21X37)實驗參數直交表結果35
表 8 濺鍍SN比因子反應表36
表 9 品質yi特性反應表37
表10品質特性貢獻度38
表11各因子信賴度百分比38
表12功能性與期望值調整後的因子分類39
表13改善後的電阻預測值40
表14參數改善前後於高溫高濕爐實驗後的霉變狀況表40
表15霉變支線比較-製程氧氣增加41
表16霉變支線比較-原始設計HIPIMS41
表17霉變支線比較-新設計WITHOUT HIPIMS42
表18實驗數據確認42
表19參數改善前後的耐久實驗結果43

圖目錄
圖 1 防護層示意圖2
圖 2 濺鍍防護層退貨重工流程圖4
圖 3 氧化錫doping比例與電阻率關係圖8
圖 4 氧化銦錫(90:10)與O2 RATE電阻率變化9
圖 5 氧化銦錫(90:10)與基板溫度電阻率變化9
圖 6 氧化銦錫膜厚與反射率的關係10
圖 7 氧化銦錫各種厚度與透光度之關係11
圖 8 濺鍍反應基本原理示意圖12
圖 9 濺鍍機磁控式設備示意圖13
圖10陰極CATHODE系統13
圖11磁控式濺鍍示意圖14
圖12薄膜成長示意圖14
圖13濺鍍機腔體示意圖15
圖14氧化銦與氧化錫解成流程16
圖15氧化銦錫靶材製作流程簡示16
圖16示波器顯示的蓄能態與釋能態18
圖17微量氣體偵測儀19
圖18微量氣體偵測H2O變化20
圖19線路感應式測溫器21
圖20測溫點位與基板位置定義21
圖21真空腔體內溫度變化(靶位4.5KW)22
圖22清洗機結構示意圖23
圖22未經過清洗與AP處理之基板表面水滴角24
圖23已經過清洗與AP處理之基板表面水滴角24
圖24影響ITO保護層製程魚骨圖28
圖25各因子與製程關係圖29
圖26田口方法實驗步驟29
圖27濺鍍SN比因子反應圖36
圖28品質YI特性反應圖37
圖29品質特性改善前後常態分布圖44


王玥、劉家祥、劉宸(2011)。奈米級ITO粉體對燒結法製備靶材的影響。稀有金屬材料與工程,40(12)。

白木靖寬,吉田貞史(2014)。薄膜工程學第二版。新北市:全華科技圖書股份有限公司。

李正中(2016)。薄膜光學與鍍膜技術第八版。新北市:軒藝圖書出版社。

李輝煌(2011)。田口方法-品質設計的原理與實務第四版。新北市:高立圖書有限公司。

李彥蒲(2011)。智慧型行動手持裝置助益IPS/FFS廣視角技術發展。光連:光電產業與技術情報,95,37-41。

李亮延(2015)。ITO與IZO薄膜之濺鍍製備和特性分析。未出版之碩士論文,私立南臺科技大學機械工程系研究所,台南市。

吳東霖(2016)。共濺鍍系統成長氧化銦錫鋅薄膜之光電特性研究。出版之碩士論文,私立元智大學光電工程研究所,桃園市。

林炯良(2015)。彩色濾光片之ITO透明導電薄膜的電阻率改善。未出版之碩士論文, 私立元智大學光電工程研究所,桃園市。

林宜君(2017)。高功率磁控濺鍍氧化鋅鈦薄膜於電漿電解氧化純鈦之抗菌性及生物相
容性之研究。未出版之碩士論文,虎尾科技大學機械與電腦輔助工程系研究所,
雲林縣。

林美惠(2012)。以直流磁控濺鍍技術製備ITO/Ag/ITO多層透明導電薄膜之研究。未出
版之碩士論文,國立勤益科技大學機械工程系研究所,台中市。

洪庭華(2019)。利用反應性高功率脈衝磁控濺鍍於不同基板之抗反射膜的抗磨耗特性。未出版之碩士論文,私立逢甲大學光電科學與工程學系研究所,台中市。

陳宇璽(2003)。直流磁控濺鍍法製備非晶態氧化銦鋅錫薄膜之特性研究。未出版之碩 士論文,國立中興大學材料科學與工程學系研究所,台中市。

許家瑄(2012)。使用濺鍍系統製備低電阻高透光度ITO/Metal/ITO薄膜。私立明新科技大學化學工程與材料科技研究所,新竹縣。

張宇呈(2005)。藉由成長氧化銅奈米線以提升氧化鋅膜層光電特性之研究。未出版之碩士論文,私立義守大學電子工程系研究所,高雄市。

張鵑如(2013)。製程變數對ITO濺鍍於玻璃基板性質的影響。未出版之碩士論文,國立高雄應用科技大模具系研究所,高雄市。

楊偉仁(2013)。以直流磁控及高功率脈衝濺鍍之TiO2光觸媒薄膜的特性分析比較。未出版之碩士論文,國立交通大學機械工程學系研究所,新竹市。

楊雲凱(2015)。物理氣相沉積(PVD)介紹。奈米通訊,22(4),33-35。

鄭春生(2014)。品質管理現代化觀念與實務應用。新北市:全華圖書出版社。

蔡宗典(2009)。超薄ITO透明導電膜應用在觸控面板之研究。未出版之碩士論文,國立中央大學光電科學研究所,桃園市。

藍銀鋒(2002),常溫鍍製銦錫氧化物於高分子軟性基板。未出版之博士論文,私立逢甲大學材料工程與科學學系研究所,台中市。

A.J.Steckl & G. Mohammed (1980). The effect of Ambient Atmosphere in The annealing of ITO films. J.Appl.Phys, 51(7), 3890-3895.


C. Guillén & J. Herrero (2009). Transparent conductive ITO/Ag/ITO multilayer electrodes deposited by sputtering at room temperature, Elsevier journal. Optics Communications, 282(12), 574-578.

Erik Lewin, Daniel Loch, Alex Montagne, Arutiun P. Ehiasarian & Jörg Patscheider (2013). Comparison of Al-Si-N nanocomposite coatings deposited by HIPIMS and DC magnetron sputtering. Surface and Coatings Technology, 232(134), 680-689.

Hamid Reza Fallah, Mohsen Ghasemi varnamkhasti & Mohammad Javad Vahid (2010). Substrate temperature effect on transparent heat reflecting nanocrystalline ITO films prepared by electron beam evaporation. Renewable Energy, 35(11), 1527–1530.

J. Vlček A. Belosludtsev Jiri Rezek, Jirí Houška (2016). High-rate reactive high-power impulse magnetron sputtering of hard and optically transparent HfO2 films. Surface and Coatings Technology, 290(213), 58-64.

K.A.Aissa, Amine Achour, Julien Camus & Laurent Le Brizoual (2014). Comparison of the structural properties and residual stress of AlN films deposited by dc magnetron sputtering and high power impulse magnetron sputtering at different working pressures,Thin. Solid Films, 550(487), 264-267.

S. Bruns, M. Vergöhl, T. Zickenrott, G. Bräuer (2016). Deposition of abrasion resistant single films and antireflective coatings on sapphire. Surface and Coatings Technology, 290(212), 10-15.

Wendi Zhang, Eerke Bunte, Florian Ruske, Dominik Köhl, Astrid Besmehn, Janine Worbs,
et al. (2012). As-grown textured zinc oxide films by ion beam treatment and magnetron sputtering. Thin Solid Films, 520(332), 4208–4213.

Wei-Sheng Liu, Shen-Yu Wu, Ching-Hsuan Tseng, & Chao-Yu Hung (2013). Quality improvement of high-performance transparent conductive Ti-doped GaZnO thin film. Thin Solid Films, 570( 223), 568–573.

電子全文 電子全文(網際網路公開日期:20250720)
QRCODE
 
 
 
 
 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                               
第一頁 上一頁 下一頁 最後一頁 top
系統版面圖檔 系統版面圖檔