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研究生:
陳學儀
研究生(外文):
Chen, Sue-Yi
論文名稱:
具有階梯式閘極氧化物結構的 20V LDMOS於電源管理IC應用的研究:設計、製造和元件特性
論文名稱(外文):
Study on 20 V LDMOS with Stepped-Gate-Oxide Structure for PMIC Applications: Design, Fabrication, and Characteristics
指導教授:
甘炯耀
指導教授(外文):
Gan, Jon-Yiew
口試委員:
熊昌鉑
、
陳頤承
、
陳義洋
、
彭胤瑋
、
廖士運
口試委員(外文):
Hsiung, Chung-Po
、
Chen, Yi-Cheng
、
Chen, Yi-Yang
、
Peng, Yin-Wei
、
Liao, Shin-Yun
口試日期:
2022-06-15
學位類別:
博士
校院名稱:
國立清華大學
系所名稱:
材料科學工程學系
學門:
工程學門
學類:
材料工程學類
論文種類:
學術論文
論文出版年:
2022
畢業學年度:
110
語文別:
中文
論文頁數:
114
中文關鍵詞:
功率元件
、
雙極-互補金屬氧化半導體-雙重擴散金屬氧化半導體工藝
、
階梯式閘極氧化物場板
、
導通電阻
、
效率指標
、
場板結構
、
減少表面電場工藝
、
橫向擴散型金氧半場效電晶體
外文關鍵詞:
PMIC
、
BCD
、
SGO
、
Ron
、
sp
、
FOM
、
Field plate
、
RESURF
、
LDMOS
相關次數:
被引用:0
點閱:173
評分:
下載:0
書目收藏:0
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