|
(1) Riul, A.; Soto, A. M. G.; Mello, S. V.; Bone, S.; Taylor, D. M.; Mattoso, L. H. C. Synthetic Metals 2003, 132, 109-116. (2) Boozer, C.; Ladd, J.; Chen, S.; Yu, Q.; Homola, J.; Jiang, S. Anal. chem. 2004, 76, 6967-6972. (3) Ferreira, M.; Riul, A.; Wohnrath, K.; Fonseca, F. J.; Oliveira, O. N.; Mattoso, L. H. C. Anal. chem. 2003, 75, 953-955. (4) Reason, M.; Smith, G.; Latham, R.; Teesdale-Spittle, P.; Ramsden, J.; Henry, B. Internation Journal of Pharmaceutics 2000, 195, 25-28. (5) Xia, W. S.; Huang, C. H.; Zhou, D. J. Langmuir 1997, 13, 80-84. (6) Yam, V. W.; Yang, Y.; Yang, H. P.; Cheung, K. K. Organometallics 1999, 18, 5252-5258. (7) Lu, Q.; Liu, M. Thin Solid Films 2003, 425, 248-254. (8) Ramos, S.; Castillo, R. J. Chem. Phys. 1999, 110, 7021-7030. (9) Liu, M.; Xu, G.; Liu, Y.; Chen, Q. Langmuir 2001, 17, 427-431. (10)Rabolt, J. F.; Burns, F. C.; Schlotter, N. E.; Swalen, J. D. J. Chem. Phys. 1983, 78, 946-952. (11)Matsumoto, M.; Tanaka, K. I.; Azumi, R.; Kondo, Y.; Yoshion, N. Langmuir 2003, 19, 2802-2807. (12)Fanucci, G. E.; Backov, R.; Fu, R.; Talham, D. R. Langmuir 2001, 17, 1660-1665. (13) Lu, Q.; Luo, Y.; Li, L.; Liu, M. Langmuir 2003, 19, 285-291. (14) Serra, A.; Genga, A.; Manno, D.; Micocci, G.; Siciliano, T.; Tepore, A.; Valli, L.; Tafuro, R. Langmuir 2003, 19, 3486-3492. (15) Ikegami, K.; Mingotaud, C.; Lan, M. Thin Solid Films 2001, 393, 193-198. (16) Tachibana, H.; Sato, F.; Terrettaz, S.; Azumi, R.; Nakamura, T.; Sakai, H.; Abe, M.; Matsumoto, M. Thin Solid Films 1998, 327-329, 813-815. (17)Nam, Y. S.; Kim, J. M.; Choi, J. W.; Lee, W. H. Mater. Sci. Engin. C 2004, 24, 35-38. (18) Hasegawa, T.; Amino, S.; Kitamura, S.; Matsumoto, L.; Katada, S. I.; Nishijo, J. Langmuir 2003, 19, 105-109. (19) Umemura, J.; Kamata, T.; Kawai, T.; Takenaka, T. J. Phys. Chem.1990, 94, 62-67. (20) Pang, S.; Zhu, D. J. Colloid Interface Sci. 2003, 265, 65-69. (21) Vollhardt, D.; Fainerman, V. B. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 12000-12005. (22) Tabe, Y.; Yamamoto, T.; Nishiyama, I.; Aoki, K. M.; Yoneya, M.; Yokoyama, H. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 12089-12092. (23) Wang, W.; Lu, X.; Xu, J.; Jiang, Y.; Liu, X.; Wang, G. Physica B 2000, 293, 6-10. (24) Avci, R.; Schweitzer, M.; Boyd, R. D.; Wittmeyer, J.; Steele, A.; Toporski, J.; Beech, I.; Arce, F. T.; Spangler, B.; Cole, K. M.; McKay, D. S. Langmuir 2004, 20, 11053-11063. (25) Huang, X.; Li, C.; Jiang, S.; Wang, X.; Zhang, B.; Liu, M. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 1322-1323. (26) Zhai, X.; Zhang, L.; Liu, M. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 7180-7185. (27) Zhang, L.; Yuan, J.; Liu, M. J. Phys. Chem. B 2003, 107, 12768-12773. (28) Ng, k.; Pack, D. W.; Sasaki, D. Y.; Arnold, F. H. Langmuir 1995, 11, 4048-4055. (29) Shnek, D. R.; Pack, D. W.; Sasaki, D. Y.; Arnold, F. H. Lanmuir 1994, 10, 2382-2388. (30) Hasegawa, T.; Leblanc, R. M. Biochimica et Biophysica Acta 2003, 1617, 89-95. (31) Sato, K.; Kumagai, Y.; Watari, K.; Tanaka, J. Langmuir 2004, 20, 2979-2981. (32) Berfeld, M.; Samokhvalov, A.; Naaman, R.; Lahav, M. Adv. Mater. 2001, 13, 584-587. (33)Guo, Q.; Teng, X.; Rahman, S.; Yang, H. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (34) Lenhert, S.; Zhang, L.; Mueller, J.; Wiesmann, H. P.; Erker, G.; Fuchs, H.; Chi, L. Adv. Mater. 2004, 16, 619-624. (35) Lu, N.; Gleiche, M.; Zheng, J.; Lenhert, S.; Xu, B.; Chi, L.; Fuchs, H. Adv. Mater. 2002, 14, 1812-1815. (36) Coronado, E.; Mingotaud, C. Adv. Mater. 1999, 11, 869-872. (37) Xia, W.; Minch, B. A.; Carducci, M. D.; Armstrong, N. R. Langmuir 2004, 20, 7998-8005. (38) Sethuraman, A.; Han, M.; Kane, R. S.; Belfort, G. Langmuir 2004, 20, 7779-7788.(39) Brewer, N. J.; Beake, B. D.; Leggett, G. J. Langmuir 2001, 17, 1970-1974. (40) Du, X.; Liang, Y. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 10047-10052. (41) Huo, Q.; Russev, S.; Hasegawa, T.; Nishijo, J.; Umemura, J.; Puccetti, G.; Russell, K. C.; Leblance, R. M. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 7890-7897. (42) Ni, Y.; Puthenkovilakom, R. R.; Huo, Q. Langmuir 2004, 20, 2765-2771. (43) Wang, Y.; Wang, C.; Wang, X.; Guo, Y.; Xie, B.; Cui, Z.; Liu, L.; Xu, L.; Zhang, D.; Yang, B. Chem. Mater. 2005, 17, 1265-1268. (44) Ariga, K.; Kunitake, T. Acc. Chem. Res. 1998, 31, 371-378. (45) Liu, M.; Cai, J. Langmuir 2000, 16, 2899-2901. (46) Fang, J.; Knobler, C. M. Langmuir 1996, 12, 1368-1374. (47) Tollner, K.; Popovitz-Biro, R.; Lahav, M.; Milstein, D. Science 1997, 278, 2100-2102. (48) Maassen, E.; Tieke, B. Langmuir 1996, 12, 5595-5600. (49)Liu, S. G.; Sui, G.; Cormier, R. A.; Leblanc, R. M.; Gregg, B. A. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 1307-1315. (50) Minch, B. A.; Xia, W.; Donley, C. L.; Hernadndez, R. M.; Carter, C.; Carducci, M. D.; Dawson, A.; O'Brien, D. F.; Armstrong, N. R. Chem. Mater. 2005, 17, 1618-1627. (51) Badis, M.; Guermouche, M. H.; Bayle, J. P.; Rogalski, M.; Rogalska, E. Langmuir 2004, 20, 7991-7997. (52) Nagano, S.; Seki, T. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 2074-2075. (53) Sui, G.; Orbulescu, J.; Mabrouki, M.; Micic, M.; Leblance, R. M. J. Phys. Chem. B 2002, 106, 9335-9340. (54) Xue, Q.; Yang, K.; Xiao, C.; Zhang, Q. Thin Solid Films 1999, 347, 263-271. (55) Yuan, J.; Lin, M. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 5051-5056. (56) Bardosova, M.; Davis, F.; Nakanishi, F.; Tredgold, R. H. Thin Solid Films 1999, 350, 228-231. (57)Bardosova, M.; Hodge, P.; Korenova, A.; Nakanishi, F.; Tredgold, R. H. Thin Solid Films 2001, 397, 8-11. (58) Esch, J. H.; Nolte, R. J. M.; Ringsdorf, H.; Wildburg, G. Langmuir 1994, 10, 1955-1961. (59) Liu, M.; Kira, A.; Nakahara, H. Langmuir 1997, 13, 4807-4809. (60) Liu, M.; Kira, A.; Nakahara, H.; Fukuda, K. Thin Solid Films 1997, 295, 250-254(61) Cai, J.; Liu, M.; Dong, C.; Li, J.; Tang, J.; Tiang, L. Colloid and Surfaces A:Physicochem. Eng. Aspects 2000, 175, 165-170. (62) Roberts, G. G. Contemp. Phys. 1984, 25, 109-128. (63) Roberts, G. G. Advances in physics 1985, 34, 475-512. (64) 江建民,“材料分析”,中國材料科學學會,2004 . (65) 于伯齡,姜膠冬,”實用熱分析”,紡織工業出版社,1988. (66) “安全訓練手冊”,新竹同步輻射中心,2001. (67) 張有義,郭蘭生,“膠體及界面化學入門” ,高立圖書有限 公司,2001. (68)Lee, K. M.; Chang, H. C.; Jiang, J. C.; Lu, L. C.; J., H. C.; Lee, Y. T.; Lin, S. H.; Lin, I. J. B. J. Chem. Phys. 2004, 120, 8645-8650.
|