|
Reference 1. C. Durkan and M. E. Welland, Phys. Rev. B 61, 14215 (2000) 2. V. Rodrigues and D. Ugarte, Nanotechnology 13, 404 (2002) 3. D. J. Sellmyer, M. Zheng, and R. Skomski, J. Phys.: Condens. Matter 13, R433 (2001) 4. J-C. Weeber, J. R. Krenn, A. Dereux, B. Lamprecht, Y. Lacroute, and J. P. Goudonnet, Phys. Rev. B 64, 045411 (2001) 5. G. Schider, J. R. Krenn, W. Gotschy, B. Lamprecht, H. Ditlbacher, A. Leitner, and F. R. Aussenegg, J. Appl. Phys. 90, 3825 (2001) 6. G. Schindler, G. Steinlesberger, M. Engelhardt, and W. Steinhögl, Solid-State Electronics 47, 1233 (2003) 7. W. Wu, R. Jonckheere, Z. Tökei, S. H. Brongersma, M. Van Hove, and K. Maex, J. Vac. Sci. Technol. B 22, L11 (2004) 8. M. Yun, N. V. Myung, R. P. Vasquez, C. Lee, E. Menke, and R. M. Penner, Nano Lett. 4, 419 (2004) 9. B. J. Murray, E. C. Walter, and R. M. Penner, Nano Lett. 4, 665 (2004) 10. O. K. Varghese, G. K. Mor, C. A. Grimes, M. Paulose, and N. Mukherjee, J. Nanosci. Nanotechno. 4, 733 (2004) 11. C. Z. Li, H. Sha, and N. J. Tao, Phys. Rev. B 58, 6775 (1998) 12. Z. C. Li, H. X. He, A. Bogozi, J. S. Bunch, and N. J. Tao, Appl. Phys. Lett. 76, 1333 (2000) 13. E. C. Walter, F. Favier, and R. M. Penner, Anal. Chem. 74, 1546 (2002) 14. E. C. Walter, R. M. Penner, H. Liu, K. H. Ng, M. P. Zach and F. Favier, Surf. Interface Anal. 34, 409 (2002) 15. Y. G. Lee and T. C. Chou, Electroanal. 15, 1589 (2003) 16. A. C. B. Lovell, Proc. Roy. Soc. A 157, 311 (1936). 17. K. Fuchs, Proc. Cambridge Philos. Soc. 34, 100 (1938) 18. E. H. Sondheimer, Adv. Phys. 1, 1 (1952) 19. R. G. Chambers, Proc. R. Soc. London, Ser. A 202, 375 (1950) 20. A. F. Mayadas, M. Shatzkes, and M. Janak, Appl. Phys. Lett. 14, 345 (1969) 21. A. F. Mayadas and M. Shatzkes, Phys. Rev. B 1, 1382 (1970) 22. Ratan Lal, Phys. Rev. B 68, 115417 (2003) 23. W. Steinhögl, G. Schindler, G. Steinlesberger, and M. Engelhardt, Phys. Rev. B 66, 075414 (2002) 24. W. Steinhögl, G. Schindler, G. Steinlesberger, M. Traving, and M. Engelhardt, Phys. Rev. B 97, 023706 (2005) 25. M. E. Toimil Molares, E. M. Höhberger, Ch. Schaeflein, R. H. Blick, R. Neumann, and C. Trautmann, Appl. Phys. Lett. 82, 2139 (2003) 26. H. T. Soh, K. W. Guarini, and C. F. Quate, Scanning Probe Lithography (Kluwer, Boston) (2001) 27. R. M. Nyffenegger and R. M. Penner, Chem. Rev. 97, 1195 (1997) 28. D. Wouters and U. S. Schubert, Angew. Chem. Int. Ed. 43, 2480 (2004) 29. T. Sumomogi, T. Endo, K. Kuwahara, R. Kaneko, T. Miyamoto, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 1257 (1994) 30. M. Wendel, S. Kühn, H. Lorenz, J. P. Kotthaus, and M. Holland, Appl. Phys. Lett. 65, 1775 (1994) 31. B. Klehn and U. Kunze, J. Appl. Phys. 85, 3897 (1999) 32. L. L. Sohn and R. L. Willett, Appl. Phys. Lett. 67, 1552 (1995) 33. V. Bouchiat and D. Esteve, Appl. Phys. Lett. 69, 3098 (1996) 34. S. Hu, A. Hamidi, S. Altmeyer, T. Köster, B. Spangenberg, and H. Kurz, J. Vac. Sci. Technol. B 16, 2822 (1998) 35. L. Santinacci, T. Djenizian, and P. Schmuki, Appl. Phys. Lett. 79, 1882 (2001) 36. L. A. Porter, A. E. Ribbe, and J. M. Buriak, Nano. Lett. 3, 1043 (2003) 37. J-H. Hsu, C-Y. Lin, and H-N. Lin, J. Vac. Sci. Technol. B 22, 2768 (2004) 38. H. Park, A. K. L. Lim, A. P. Alivisatos, J. Park, and P. L. McEuen, Appl. Phys. Lett. 75, 301 (1999) 39. D. R. Strachan, D. E. Smith, D. E. Johnston, T. H. Park, M. J. Therien, D. A. Bonnell, and A. T. Johnson, Appl. Phys. Lett. 86, 043109 (2005) 40. M. M. Deshmukh, A. L. Prieto, Q. Gu, and H. K. Park, Nano Lett. 3, 1383 (2003) 41. F. Chen, Q. Qing, L. Ren, Z. Wu, and Z. Liu, Appl. Phys. Lett. 86, 123105 (2005) 42. K. Liu, P. Avouris, J. Bucchignano, R. Martel, S. Sun, and J. Michl, Appl. Phys. Lett. 80, 865 (2002) 43. D. Porath, A. Bezryadin, S. de Vries, and C. Dekker, Nature 403, 635 (2000) 44. M. A. Reed, C. Zhou, C. J. Muller, T. P. Burgin, and J. M. Tour, Science 278, 252 (1997) 45. R. H. M. Smit, Y. Noat, C. Untiedt, N. D. Lang, M. C. van Hemert, and J. M. van Ruitenbeek, Nature 419, 906 (2002) 46. J. Chung, K. H. Lee, and J. Lee, Nano Lett. 3, 1029 (2003) 47. I. Heller, J. Kong, H. A. Heerinh, K. A. Williams, S. G. Lemay, and C. Dekker, Nano Lett. 5, 137 (2005) 48. T. Miyazaki, K. Kobayashi, T. Horiuchi, H. Yamada, and K. Matsusuige, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 40, 4365 (2001) 49. H. Zhang, S. W. Chung, and C. A. Mirkin, Nano Lett. 3, 43 (2003) 50. P. Vettiger, M. Despont, U. Drechsler, U. Dürig, W. Häberle, M. I. Lutwyche, H. Rothuizen, R. Stutz, R. Widmer, G. K. Rinnig, IBM J. Res. Dev 44, 323 (2000) 51. G. Binnig, H. Rohrer, Ch. Gerber, and E. Weibel, Phys. Rev. Lett 49, 56 (1982) 52. G. Binnig, C. F. Quate and Ch. Gerber, Phys. Rev. Lett. 56, 930 (1986) 53. J. Emsley, The Elements (Oxford: Clarendon) (1989) 54. J. Jorritsma, M. A. M. Gijs, J. M. Kerkhof, and J. G. H. Stienen, Nanotechnology 7, 263 (1996) 55. M. Calleja, M. Tello, J. Anguita, F. García, and R. García, Appl. Phys. Lett. 79, 2471 (2001) 56. A. Bietsch and B. Michel, Appl. Phys. Lett. 80, 3346 (2002) 57. Y. D. Park, K. B. Jung, M. Overberg, D. Temple, S. J. Pearton, and P. H. Holloway, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 16 (2000) 58. E. S. Snow and P. M. Campbell, Science 270, 1639 (1995).
|