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研究生:林伯耕
論文名稱:感光性介電材料於高密度印刷電路板之研究
論文名稱(外文):The application of photo dielectric material on high density printed circuit board
指導教授:陶惟翰陶惟翰引用關係
學位類別:碩士
校院名稱:中國文化大學
系所名稱:材料科學與製造研究所
學門:工程學門
學類:化學工程學類
論文種類:學術論文
論文出版年:2002
畢業學年度:90
語文別:中文
論文頁數:111
中文關鍵詞:感光性介電材料增層板調幅式示差掃瞄熱分析儀高週波電漿聚四氟乙烯
外文關鍵詞:Photo Dielectric MaterialBuild-up SubstrateMDSCRadio frequency plasmaPolytetrafluoro-ethylene
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本論文主要探討ViaLuxTM81( Du pont )感光性介電材料(photo dielectric)於高密度印刷電路板之研究,配合田口實驗規劃,作出增層式印刷電路板中感光性介電層之4 mil 微孔洞微影最適化參數。在製程上是選用Build up製程,參數設定分別為曝光量、曝後烤溫度及曝後烤時間和顯影時間。以光學顯微鏡和3次元量床,觀測並分析微孔洞的構造,比較實驗條件不同之微孔洞,得到最適化微影的實驗條件。使用MDSC(調幅式示差掃瞄熱分析儀)掃描曝光量不同之ViaLuxTM81感光性介電材料,分析ViaLuxTM81之光驅動反應。以及曝後烤溫度對ViaLuxTM81熱驅動反應之影響。
由於發現其黏著性普遍不佳,所以在改用聚四氟已烯(Polytetrafluoro-ethylene,PTFE)介電材料,利用高週波電漿改質技術增加PTFE親水性,並使用ESCA作表面的分析及探討,分析不同參數對PTFE表面的親水性的影響。
The study of Photo Dielectric Material (ViaLuxTM81, Du pont ) applied on the high density printed circuit board. In the experiment which is getting the optimum operation for 4 mil photo dielectric via on the Build-up substrate by Taguchi.Four operation parameters which are the exposure, the temperature of post bake , the time of post bake and the time of development.
Analyzing the structure of 4 mil photo dielectric via by O.G.P and microscopy.Getting the best operation parameters of 4 mil photo dielectric via analyzing by different vias.Analyzing the photo dielectric material of ViaLuxTM81 by using the MDSC.
We analyzed the photo dielectric under the different exposure by MDSC. Studying the effect of the reaction of photolytic of the photo dielectric. Then analyzing of the different temperature of post bake photo dielectric by MDSC. Studying the effect of thermal of photo dielectric.
The adhesion of photo dielectric was not well. Using the PTFE for the dielectric material. Then using the RF plasma to increase the hydrophilic of the PTFE. Analyzing the surface of the PTFE by ESCA.
中文摘要 I
ABSTRACT II
致 謝 III
總目錄 IV
圖目錄 VII
第一章前 言 1
1-1研究背景 1
1-2 研究目的 2
1-3研究內容 3
第二章理論說明與文獻回顧 5
2.1印刷電路板簡介 5
2.1-1印刷電路板之發展 6
2.2印刷電路板之製程技術與材料 9
2.2-1印刷電路板之製程技術 9
2.2-2印刷電路板之材料 12
2.2-3介面黏著理論 19
2.3電漿改質原理 22
2.3-1電漿簡介 22
2.3-2電漿特徵 23
2.3-4電漿表面改質 27
第三章實驗步驟及流程 50
3.1 增層式印刷電路板製作流程 50
3.1-1微孔洞之光學量測 51
3.1-2調幅式示差掃瞄熱分析儀 52
3.2 電漿改質步驟 53
3.2-1 接觸角量測 54
3.2-2電子能譜化學元素分析(ESCA) 55
3.3 實驗藥品及分析儀器 56
3.3-1藥品 56
3.3-2儀器設備 56
第四章結果與討論 69
4.1 ViaLuxTM 81之材料分析 69
4.1-1孔洞立體結構之最佳操作條件 69
4.1-2曝光量對ViaLuxTM 81光驅動反應 70
4.1-3烘烤溫度對ViaLuxTM81熱驅動反應 71
4.2電漿處理分析 71
4.2-1壓力對PTFE表面改質後接觸角之影響 71
4.2-2電漿功率對PTFE表面改質後接觸角之影響 74
4.2-3電子能譜化學元素分析(ESCA) 75
第五章結論 95
文獻回顧 97
附 錄 101
1. 日本工業規格JIS C 5603 印刷電路用語
2. 高木 清, 2001, “增層、多層印刷電路板技術”, No.1, pp.8.
3. 高木, 1979, “超LSI的高密度印刷電路板,實務表面技術”, No. 3, pp.21.
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5. 中谷,中村,和田, 1995, ”函全層IVH構造的樹脂多層基板”, 第9回電路組裝學會演講大會論文集, 15A-11, March 14-16。
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