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光罩位處於晶圓製造的上游,近年由於製程上的突飛猛進,對IC 設計公司(Design house)而言,無論是光罩(mask)或者是晶圓(wafer)進案(tape-out)的成本日趨於重,如何保障光罩資料處理的正確性,減低人為的錯誤, 以及加快 IC設計公司對 cycle time的需求,都是本論文想探討的,本論文提出針對光罩資料處理的自動化系統,來快速檢驗客戶的進案,並加快光罩資料處理的時間,減低人為錯誤的發生(MO prevention),經系統實作後,從客戶進案效率有效改善,提高資料圖形處理總產量,未來光罩資料處理系統提供更多自動化的功能,期望能更減低資料處理時間,提升光罩品質,來達到Time-to-market期望.
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